пуск газлифтной скважины в эксплуатацию. Расчет пускового давления. Методы снижения пускового давления газлифтной скважины.

Полный текст и рисунки здесь: Полная версия

Процесс пуска состоит в доведении закачиваемого газа до башмака подъемных труб, т. е. в отжатии газом уровня жид­кости до башмака. Это означает, что объем жидкости в меж­трубном пространстве V₁ должен быть вытеснен нагнетаемым газом (рис. 4). Вытесняемая жидкость перетекает в подъ­емные трубы, в результате чего уровень в них становится выше статического. Возникает репрессия на пласт, определяе­мая превышением столба жидкости Dh над статическим уров­нем, под действием которой должно произойти частичное по­глощение жидкости пластом. Пусковое давление всегда больше ра­бочего. Это осложняет промысловое обустройство и технику эксплуатации газлифтных скважин, так как для их пуска необ­ходимо иметь источник высокого давления газа в виде специ­ального компрессора или газовой линии, рассчитанной на пу­сковое давление.

Рис. 5. Изменение давления газа на устье при пуске газлифтной скважины

Характерный процесс пуска газлифтной скважины в функ­ции времени показан на рис.5. После прорыва газа через башмак подъемных труб и выноса части жидкости скважина переходит на установившийся режим работы с соответствующим отбору динамическим уровнем, а следовательно, и соответ­ствующим этому уровню рабочим давлением р_р.

Последовательный допуск труб. Башмак подъемных труб в этом случае спускается под ста­тический уровень не на проектную глубину, а на такую, при которой можно продавить скважину имеющимся давлением рк (давление компрессора или в газовой линии). Применение пусковых отверстий. На колонне лифтовых труб ниже статического уровня за­благовременно сверлятся так называемые пусковые отверстия. При закачке газа в межтрубное пространство опускающийся уровень жидкости обнажает первое отверстие, через которое газ поступает в НКТ, разгазирует в них жидкость до такой степени, что она начинает переливать. Это явление анало­гично работе газлифтной скважины с башмаком, установлен­ным на уровне первого отверстия.